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从半年报看掩膜版赛谈:研发进入分化 本事解围加快国产替代

发布日期:2025-09-19 14:56    点击次数:75

  2025年上半年,跟着龙图光罩、路维光电、清溢光电、冠石科技四家A股中枢掩膜版企业半年报接踵流露,这条高壁垒赛谈的 “武备竞赛” 最新动态浮出水面。集微网通过对研发进入、东谈主才储备、专利布局以及本事进展等关键维度的拆解,试图还原国产掩膜版企业在这场较量中的解围态势与将来走向。

  研发进入:分化中藏增长密码

  研发用度是企业本事竞争力的 “燃料”。2025 年上半年,四家企业研发用度呈现分化面容。清溢光电以2485万元的研发用度居首,但同比微降2.48%;龙图光罩研发用度虽仅1179万元,却终了10.22%的同比正增长,在四家企业中施展亮眼;冠石科技、路维光电研发用度分裂为1951万元、1801万元,同比下落15.92%、9.59%。

  从研发用度率看,龙图光罩以10.17%一骑绝尘,远超其他三家,彰显其对研发的“重仓”作风;清溢光电为4%,路维光电3.31%,冠石科技2.82%。龙图光罩的高研发用度率,与其珠海工场投产、布局高端制程等计谋动作精细相关,为后续本事突破和市集拓展积累力量。

  研发东谈主员界限与占比,是本事东谈主才储备的直不雅体现。戒指2025年6月30日,清溢光电以106名研发东谈主员成为“东谈主才大户”,冠石科技97东谈主、路维光电56东谈主、龙图光罩43东谈主紧随自后。

  研发东谈主员占譬如面,清溢光电16.54%、龙图光罩16.48%、路维光电16.33%,差距甚微,冠石科技12.52%稍低。这标明除冠石科技外,其余三家企业均保持着较高的研发东谈主才密度,为本事立异提供了东谈主力维持。

  专利是研发效果的“硬通货”。清溢光电以84项专利总额领跑,发明专利18项;路维光电虽专利总额67项,但发明专利达22项,在四家企业中拔得头筹;冠石科技、龙图光罩专利总额分裂为72项、70项,发明专利14项、13项。发明专利数目的多寡,径直响应企业在中枢本事领域的突破才智,路维光电的施展尤为卓绝,清楚其在关键本事上的攻坚见效。

  本事实力:各展长处,国产替代提速

  清溢光电:清楚领域领跑,夯实龙头地位

  在平板清楚掩膜版领域,清溢光电稳居巨匠第四、中国第一。据Omdia数据清楚,2024年公司平板清楚掩膜版销售金额位列巨匠第四。其产物遮蔽8.6代高精度TFT用掩膜版、6代中高精度AMOLED/LTPS掩膜版等,与京东方、维信诺等国内主要面板厂商深度互助。2025年上半年,公司终了中高端半透膜掩膜版(HTM)量产及超高规HTM小界限量产,OLED HTM与高规格相移掩膜版(PSM)也在筹备开导中,赓续持重在清楚领域的本事上风。

  半导体芯片掩膜版领域,清溢光电已终了180nm工艺节点量产、150nm小界限量产,行使于IGBT、碳化硅等领域,与芯联集成、比亚迪半导体等企业建立互助。SEMI瞻望2025年中国半导体芯片掩膜版需求达6.95亿好意思元,但当今国产制造才智薄弱,依赖国外。清溢光电通过拓展工艺研发才智,正加快训诫半导体芯片掩膜版国产化率。

  路维光电:本事突破正常,迫害国外阁下

  路维光电在多个本事领域终了突破,减弱与国外起始企业的差距。G11高精度超大尺寸掩膜版领域,公司是国内首家且独一掌抓该本事的企业,置身宇宙第四;半颜色掩膜版领域,终了全世代产物量产,迫害国外长久阁下;PSM领域,完成衰减型相移掩膜版工艺本事研发,部分产物已量产或通过客户考据;光阻涂布领域,自主开导高精度、大尺寸本事,终了产业链上游蔓延。

  凭借本事上风,路维光电构建了丰富的产物矩阵。清楚领域,是国内独一可全面配套不同世代面板产线的原土企业,遮蔽全清楚本事;半导体领域,已终了180nm制程量产,150nm/130nm小批量量产,产物遮蔽第三代半导体相关领域。同期,公司投资建树路芯半导体130 - 28nm名堂,投产后将进一步完善半导体领域布局,鞭策国产替代。

  龙图光罩:产能开释+本事攻坚,剑指高端制程

  龙图光罩手脚国内稀缺的孤苦第三方半导体掩模版厂商,2025年上半年珠海工场告成投产,成为发展关键节点。第三代掩模版PSM产物得回进展,90nm节点产物终了从研发到量产的向上,65nm节点产物送样考据,高端制程影响力训诫。公司与国内头部晶圆厂深刻互助,更高品级产物下半年将流片考据,将来制程将向65nm甚而更高拓展,下流行使领域也将进一步扩展。

  2025年上半年,公司生意收入虽因产能瓶颈、策略性降价及客户采购疗养有所下滑,但二季度下滑幅度收窄。跟着珠海工场新产能爬坡,以及先进封装领域客户的开拓,公司收入和净利润瞻望迟缓规复增长。同期,公司赓续加大研发进入,2025年上半年研发用度同比增长10.22%,为第三代半导体掩模版块事全过程研发提供救援,保持本事上风。

  冠石科技:新产线破局,对准先进制程

  冠石科技子公司宁波冠石的光掩膜版名堂 2025年上半年进入送样考据期,虽收入界限较小,但进展飞速。2023年5月初始的 “光掩膜版制造名堂”,2025年3月终了55纳米光掩膜版录用及40纳米分娩线通线,填补了国内先进制程光罩空缺,迫害国外阁下。

  当今,相关制程产物在客户端考据、流片进展理思,名堂部分建成投产后,公司将成为国内本事先进的孤苦光掩膜版分娩企业,训诫我国半导体光掩膜产业的安全性与可控性。2025年上半年,该名堂已终了生意收入716.88万元,将来增长后劲值得期待。

  回归

  2025年上半年,四家A股中枢掩膜版企业在研发进入、本事突破、产能布局等方面各有亮点,尽管刻下仍面对部分高端领域依赖入口、市集竞争加重等挑战,但跟着国产替代需求的赓续开释,以及企业在本事研发和产能推广上的不停进入,国产掩膜版企业有望在这场高壁垒赛谈的 “武备竞赛” 中,终了更大范围的突破,为我国半导体和清楚产业的发展提供更坚实的维持。

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